我们已经获得了批判性，反直观的见解，如果我们使用基于实验晶圆的测试，我们将无法轻易发现... Semulator3d允许我们了解临界流边缘并使我们能够设计替代解决方案。Semulator3D是这些复杂过程变异研究的最“硅准确”过程建模软件。它通过加速和降低开发周期并限制基于晶圆的学习循环的时间和成本，为IMEC和我们的合作伙伴提供高价值。
最新的CoventorMP产品释放在MEMS设计能力中提供了突破。随着GDS导入能力的引入和MEMS +中的任意几何形状的能力，我们可以快速准确地评估设备和系统级别的MEMS设计的性能。MEMS +允许我们轻松迭代设计变更和改进，以满足我们的产品性能目标。Adi从Coventor在MEMS设计自动化的进步方面大大受益匪浅，我们期待着继续与长远的长期合作。
使用Semulator3d虚拟制造允许工程师容易地开发和测试使用多种物理设计模式的大量处理步长组合和新颖的过程流，这在真实的制造环境中是不可能的。每个过程步骤的模型可以通过实验测量校准，从而产生非常可靠的结果模型，可以以多种组合重复使用。
Verilog-A从MEMS +导出的阶数模型（ROM）捕获基本手工制作模型中未见的二阶效果，而不会在模拟性能中妥协。我们能够在几分钟内创建一个Verilog-A的复杂陀螺仪设计ROM，允许我们的ASIC团队与MEMS团队在进一步设计迭代中与MEMS团队一起工作。（...。）MEMS +启用的MEM和ASIC设计人员之间的强大模型交换会降低设计错误的概率，可以帮助避免昂贵的重新设计来解决意外行为所需的迭代。
Semulator3D是我们选择新技术和想法的首选工具。我们还使用Semulator3D为新同事的文档和培训创建3D横截面。生成3D图片和动画的能力使得解释一个过程更容易。
使用由COVETOR开发的半导体过程模拟，该3D模型以高分辨率表示FINFET设备的一小部分。图形在每个边缘上显示大约600nm的结构的一部分（大致是橙色光的波长）。17种颜色中的每一个代表制造过程中的不同材料。
该模型完全集成，高度预测性和极其准确，从而通过FEOL向后端金属层开始晶片的所有过程。它突出了半导体3D的先进虚拟晶片制造能力，包括多焦，可视性限制沉积，选择性外延和其他半导体制造工艺。
（信用：彼得炒，Arc-3D和Nyu应用物理系）
